电子解决方案
CMP垫
用于化学机械平整(CMP)的Politex™pad系列用于铜屏障, 抛光和清洁应用程序. Politex™垫是行业标准的软垫.
好处:
应用程序:
E世博esb备用网站的CMP垫覆盖广泛的应用和技术节点. 要进一步探索E世博CMP垫，请参阅E世博esb备用网站的 按应用分类的产品族概述.
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