Politex™CMP抛光垫

用于化学机械平整(CMP)的Politex™pad系列用于铜屏障, 抛光和清洁应用程序. Politex™垫是行业标准的软垫.

  • 好处:

    • 适用于多种应用的行业标准软垫
    • 不需要空调

    应用程序:

    • 铜障碍,浅黄色
其他CMP应用程序

E世博esb备用网站的CMP垫覆盖广泛的应用和技术节点. 要进一步探索E世博CMP垫,请参阅E世博esb备用网站的 按应用分类的产品族概述.