CMP垫

E世博esb网站的广泛抛光垫组合

E世博是全球抛光垫的领导者, 化学机械平整(CMP)浆液和应用专业知识,服务于半导体芯片制造行业和其他先进的基板抛光应用. 几十年的经验, E世博esb网站提供全系列的抛光垫和泥浆,旨在满足每个CMP应用程序和节点的不同性能需求. 每一种产品都包含特定的设计目标和基础科学,以实现所需的性能. E世博esb备用网站先进的R&维能力, 包括统计过程控制, 自动化, 并对产品进行表征和分析, 导致了材料创新的重大进步.

与应用设施接近E世博esb备用网站的客户, E世博esb备用网站已经能够与E世博esb备用网站的客户发展关键的合作,以加速产品和工艺开发, 包括14纳米以下的CMP工艺和3D-IC技术中的平面化材料. E世博esb备用网站的战略联盟和合作加速为客户带来新的CMP技术,同时提供最适合每个客户特定工艺要求的材料.

 
 
 
  • E世博esb备用网站的CMP垫覆盖广泛的应用和技术节点. 帮助理解哪些技术适合于不同的CMP应用程序, 请参考以下图表.

    大部分铜抛光

    Ikonic™3040M, 4121H, 4250H

    Visionpad™6000,7480,9280

    IC1000™ 

    抛光铜障碍

    Ikonic™2010H, 2020H, 2040H, 2060H

    Visionpad™3100,3500

    Optivision™PRO 9500

    钨抛光

    Ikonic™4250H, 4121H, 4141H

    Visionpad™5000

    IC1000™

    应用STI /二氧化铈抛光

    Ikonic™4121H, 4140H, 4250H

    Visionpad™5000,6000

    IC1000™

    氧化物抛光

    Visionpad™5000,6000,7480

    IC1000™

    浅黄色抛光

    Ikonic™2010H, 2020H, 2040H, 2060H

    Optivision™4540,4548

    Optivision™PRO 9500

    Politex™,Politex™

    IC1000™

CMP的材料

 
 
 
其他CMP应用程序

E世博esb备用网站的CMP垫覆盖广泛的应用和技术节点. 要进一步探索E世博CMP垫,请参阅E世博esb备用网站的 按应用分类的产品族概述.